日本armssystem無(wú)掩模曝光高分辨率顯微鏡

日本armssystem無(wú)掩模曝光高分辨率顯微鏡 UTA系列 特點(diǎn)介紹

我們的“無(wú)掩模曝光設(shè)備/顯微鏡 LED 曝光裝置 UTA 系列"被用于主要由名古屋大學(xué)的 Minoru Osada 教授進(jìn)行的一些研究。

?顯微鏡LED曝光裝置UTA系列是無(wú)需掩模的光刻用圖案投影曝光裝置。（無(wú)掩模曝光設(shè)備）

?使用金相顯微鏡和帶LED光源的DLP投影儀，將分辨率為數(shù)微米的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上并進(jìn)行曝光。

- 可以在計(jì)算機(jī)上自由創(chuàng)建圖案。

?它比電子束光刻便宜得多，也更簡(jiǎn)單，因?yàn)殡姌O可以在大氣中形成在各種尺寸和形狀的層狀材料的單晶薄片上。無(wú)需創(chuàng)建昂貴的電極圖案掩模。（如果幾微米的分辨率就足夠了）

日本armssystem無(wú)掩模曝光高分辨率顯微鏡 UTA系列 規(guī)格參數(shù)

薄膜 FET 和霍爾效應(yīng)測(cè)量樣品的電極形成

形成電極以去除石墨烯/鉬原石上的薄片并評(píng)估原石的特性

研發(fā)應(yīng)用模式形成

由于它結(jié)合了顯微鏡和 DLP，因此可以比現(xiàn)有的無(wú)掩模曝光設(shè)備以更低的成本構(gòu)建系統(tǒng)。

易于使用的專用軟件可讓您輕松創(chuàng)建曝光圖案

物鏡的放大倍率可以實(shí)現(xiàn)從微小圖案到大范圍的批量曝光。

也可以將其連接到您自己的金相顯微鏡上（根據(jù)條件）

分辨率也可以達(dá)到數(shù)微米（數(shù)微米圖案成型）。